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详细内容:采用大型平面靶技术,可以在玻璃上面镀制单质金属膜、复合膜、电磁屏蔽膜、ITO膜,可以根据需要配置多个真空室,每个真空室根据需要配置不同的靶材,室与室之间采用独立的真空抽气系统,可以随意调节各个真空室的气体参数,镀制不同的膜层,可以满足工业化连续生产的需要。广泛应用于玻璃、PMMA、电子屏蔽等各种镀膜领域。 技术参数: 镀膜产品最大尺寸:1200*2400等规格,可根据客户的具体需求设计而设计制造。 夹具方式:连续式平面移动方式。 各个机型均可选择手动、自动控制系统。
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